离子注入/退火计量系统能够对一系列半导体技术进行在线注入剂量监测,包括先进设计节点器件和化合物半导体器件
DM Series可生成有关离子注入剂量和分布、注入和退火均匀性以及晶格损伤等关键过程信息
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