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支持亚 10nm 节点光罩多维观察与 SEM 测量的系统，测量产量较 E3640 提升一倍，MAM 时间与测量精度大幅改善
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支持光罩与其他图案介质图案测量的多视觉测量扫描电镜（MVM-SEM），尺寸小至 1Xnm，并为 EUV 光罩与 NIL 模板提供增强量测性能
MASK MVM-SEM E3650 光罩量测扫描电镜 亚10nm|爱德万测试 (在产)
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爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试（Advantest Corporation）
MASK MVM-SEM E3650 光罩量测扫描电镜 亚10nm
亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
产品简介
随着多重曝光技术进步、更细间距与更复杂电路的发展，以及光罩数量和各光罩测量点数量的增加，需要对光罩上形成的布线图案尺寸进行稳定的高精度测量和评估。爱德万 E3600 系列产品满足先进设备的需求，具有高测量可重复性和稳定产能。
E3650 采用爱德万专有电子束扫描技术，以更高精度和稳定性测量光罩上的精细图案尺寸。与现有型号 E3640 相比，其测量产量增加了一倍，能够大规模测量更加复杂的图案以及因多重图案而增加的光罩数量；除前沿光罩技术外，在测量 EUV 光罩和纳米压印应用主模板时也显示出卓越性能。
官方定位：亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
核心参数
• 节点覆盖：亚 10nm 光罩
• 产量：相比 E3640 提升一倍
• 核心技术：爱德万专有电子束扫描技术
• MAM 时间：移动获取测量时间大幅提高
• 测量精度：大幅提高
• 视场：支持大视场测量
• 长期稳定性：CD 测量长期稳定性提升
• DBM：支持基于设计的测量（Design-Based Metrology）
• 观察方式：支持三维观察
亚 10nm 光罩测量
• 对光罩布线图案尺寸进行稳定的高精度测量与评估
• 具备高测量可重复性与稳定产能
效率与精度提升
• MAM 时间及测量精度大幅提高
• 大视场测量
• 提高 CD 测量的长期稳定性
扩展应用
• 支持 DBM（基于设计的测量）
• 支持三维观察
• 在 EUV 光罩与纳米压印主模板测量上表现卓越
典型应用场景
• 亚 10nm 节点光罩关键尺寸测量
• 多重曝光工艺的光罩测量点大规模评估
• EUV 光罩量测
• 纳米压印主模板（NIL）测量
资源下载
• 详细指标：全部技术指标已单独整理，详见 MASK MVM-SEM E3650 详细指标页
onetest仪器资源库 · 爱德万测试 MASK MVM-SEM E3650
爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试（Advantest Corporation）
MASK MVM-SEM E3650 · 详细指标
亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
产品简介
支持亚 10nm 节点光罩多维观察与 SEM 测量的系统，测量产量较 E3640 提升一倍，MAM 时间与测量精度大幅改善。
官方定位：亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
核心规格
• 节点覆盖：亚 10nm 光罩
• 产量：相比 E3640 提升一倍
• 核心技术：爱德万专有电子束扫描技术
• MAM 时间：移动获取测量时间大幅提高
• 测量精度：大幅提高
• 视场：支持大视场测量
• 长期稳定性：CD 测量长期稳定性提升
• DBM：支持基于设计的测量（Design-Based Metrology）
• 观察方式：支持三维观察
亚 10nm 光罩测量
• 对光罩布线图案尺寸进行稳定的高精度测量与评估
• 具备高测量可重复性与稳定产能
效率与精度提升
• MAM 时间及测量精度大幅提高
• 大视场测量
• 提高 CD 测量的长期稳定性
扩展应用
• 支持 DBM（基于设计的测量）
• 支持三维观察
• 在 EUV 光罩与纳米压印主模板测量上表现卓越
典型应用场景
• 亚 10nm 节点光罩关键尺寸测量
• 多重曝光工艺的光罩测量点大规模评估
• EUV 光罩量测
• 纳米压印主模板（NIL）测量
官方产品页指标原文
• 支持亚10 nm节点光罩的多维观察和SEM测量
注：以上指标按爱德万测试中国站产品页与其公开手册整理，未特别说明者为厂商标称值；如官网与手册冲突以厂商最新发布为准。
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