ONETEST 欢迎您
厂商登录 | 入驻
登录 | 注册 购物车 微信公众号
客服
厂商登录
类似产品
CN015 多路扫描测试软件。测量电池电芯的开路电压（OCV）、内部电阻（AC-IR）， 测量结果同时自动匹配条形码。使用SW1001(或SW1002)可实现多个电池的边切换、边测试。只需通过电芯上的条形码查询到对应的数据文件，即可追溯到问题工序。先为电池电芯本体赋予条形码（激光印刷、标签粘贴），使用扫码枪读取条形码情报（支持双通道）， 再以数据文件形式保存，规避人为输入存在的失误，全数字化模式方便后续管理。
同厂商产品
专用于光掩模及掩模底版超小缺陷复查与分类的 DR-SEM，SEM 空间分辨率 2nm，针对 EUV 光刻掩模要求做了多项改进设计。
支持亚 2nm 节点光罩的 CD-SEM，相比 E3650 测量精度提升 20% 以上，并支持曲线图案测量与基于设计的量测。
支持光罩与其他图案介质图案测量的多视觉测量扫描电镜（MVM-SEM），尺寸小至 1Xnm，并为 EUV 光罩与 NIL 模板提供增强量测性能。
MASK MVM-SEM E3650 光罩量测扫描电镜 亚10nm|爱德万测试 (在产)
参考价格 ：
产品描述
详细指标
软件和手册|白皮书
购买渠道
选件
问大家
视频
测评
口碑
系统与解决方案
爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试（Advantest Corporation）
MASK MVM-SEM E3650 光罩量测扫描电镜 亚10nm
亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
产品简介
随着多重曝光技术进步、更细间距与更复杂电路的发展，以及光罩数量和各光罩测量点数量的增加，需要对光罩上形成的布线图案尺寸进行稳定的高精度测量和评估。爱德万 E3600 系列产品满足先进设备的需求，具有高测量可重复性和稳定产能。
E3650 采用爱德万专有电子束扫描技术，以更高精度和稳定性测量光罩上的精细图案尺寸。与现有型号 E3640 相比，其测量产量增加了一倍，能够大规模测量更加复杂的图案以及因多重图案而增加的光罩数量；除前沿光罩技术外，在测量 EUV 光罩和纳米压印应用主模板时也显示出卓越性能。
官方定位：亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
核心参数
• 节点覆盖：亚 10nm 光罩
• 产量：相比 E3640 提升一倍
• 核心技术：爱德万专有电子束扫描技术
• MAM 时间：移动获取测量时间大幅提高
• 测量精度：大幅提高
• 视场：支持大视场测量
• 长期稳定性：CD 测量长期稳定性提升
• DBM：支持基于设计的测量（Design-Based Metrology）
• 观察方式：支持三维观察
亚 10nm 光罩测量
• 对光罩布线图案尺寸进行稳定的高精度测量与评估
• 具备高测量可重复性与稳定产能
效率与精度提升
• MAM 时间及测量精度大幅提高
• 大视场测量
• 提高 CD 测量的长期稳定性
扩展应用
• 支持 DBM（基于设计的测量）
• 支持三维观察
• 在 EUV 光罩与纳米压印主模板测量上表现卓越
典型应用场景
• 亚 10nm 节点光罩关键尺寸测量
• 多重曝光工艺的光罩测量点大规模评估
• EUV 光罩量测
• 纳米压印主模板（NIL）测量
资源下载
• 详细指标：全部技术指标已单独整理，详见 MASK MVM-SEM E3650 详细指标页
onetest仪器资源库 · 爱德万测试 MASK MVM-SEM E3650
爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试（Advantest Corporation）
MASK MVM-SEM E3650 · 详细指标
亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
产品简介
支持亚 10nm 节点光罩多维观察与 SEM 测量的系统，测量产量较 E3640 提升一倍，MAM 时间与测量精度大幅改善。
官方定位：亚 10nm 节点 · 产量较 E3640 翻倍 · MAM 时间与精度大幅提升 · 大视场测量
核心规格
• 节点覆盖：亚 10nm 光罩
• 产量：相比 E3640 提升一倍
• 核心技术：爱德万专有电子束扫描技术
• MAM 时间：移动获取测量时间大幅提高
• 测量精度：大幅提高
• 视场：支持大视场测量
• 长期稳定性：CD 测量长期稳定性提升
• DBM：支持基于设计的测量（Design-Based Metrology）
• 观察方式：支持三维观察
亚 10nm 光罩测量
• 对光罩布线图案尺寸进行稳定的高精度测量与评估
• 具备高测量可重复性与稳定产能
效率与精度提升
• MAM 时间及测量精度大幅提高
• 大视场测量
• 提高 CD 测量的长期稳定性
扩展应用
• 支持 DBM（基于设计的测量）
• 支持三维观察
• 在 EUV 光罩与纳米压印主模板测量上表现卓越
典型应用场景
• 亚 10nm 节点光罩关键尺寸测量
• 多重曝光工艺的光罩测量点大规模评估
• EUV 光罩量测
• 纳米压印主模板（NIL）测量
官方产品页指标原文
• 支持亚10 nm节点光罩的多维观察和SEM测量
注：以上指标按爱德万测试中国站产品页与其公开手册整理，未特别说明者为厂商标称值；如官网与手册冲突以厂商最新发布为准。
资源下载
onetest仪器资源库 · 爱德万测试 MASK MVM-SEM E3650 详细指标
全部
爱德万测试官方渠道
厂家联系方式
爱德万测试（中国）管理有限公司
电话：+86-21-6163-0000
传真：+86-21-2028-7600
地址：上海市张江高科技园区华佗路 168 号 3 号楼 C 幢（邮编 201203）
网址：https://www.advantest.com/cn/
0条提问
X
提问
X
回答
暂无视频
0条口碑
X
发表口碑
粤公网安备44030902003758