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MASK DR-SEM E5620 光罩缺陷复检电镜 2nm|爱德万测试 (在产)

专用于光掩模及掩模底版超小缺陷复查与分类的 DR-SEM,SEM 空间分辨率 2nm,针对 EUV 光刻掩模要求做了多项改进设计。
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爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试(Advantest Corporation)
MASK DR-SEM E5620 光罩缺陷复检电镜 2nm
SEM 空间分辨率 2nm · EDS 能量分辨率 127eV(选配)· 支持 6025 尺寸光掩模
产品简介
E5620 是专用于光掩模及掩模底版上超小缺陷的复查和分类的一款 MASK DR-SEM 产品。该产品采用爱德万测试极其稳定的图像捕捉技术,可轻松导入掩模检测系统的缺陷定位数据,并自动对缺陷位置进行成像。
与上一代 DR-SEM 系统 E5610 相比,E5620 专门针对极紫外(EUV)光刻技术的掩模要求进行了多项改进设计。
官方定位:SEM 空间分辨率 2nm · EDS 能量分辨率 127eV(选配)· 支持 6025 尺寸光掩模
核心参数
• 类型:缺陷复查扫描电子显微镜(DR-SEM)
• 支持材料:6025 尺寸光掩模
• SEM 空间分辨率:2nm
• EDS 能量分辨率:127eV(选配)
• 图像采集:极其稳定的自动图像采集技术
• 兼容性:兼容掩模检测系统
• 选件:元素组成分析选件、背散射电子分析选件
高空间分辨率
• SEM 空间分辨率达到 2nm
• 适用于光掩模及掩模底版上超小缺陷的复查与分类
稳定的自动图像采集
• 采用极其稳定的图像捕捉技术
• 可轻松导入掩模检测系统的缺陷定位数据
• 自动对缺陷位置进行成像
分析与兼容能力
• 兼容掩模检测系统
• 元素组成分析选件
• 背散射电子分析选件
典型应用场景
• 光掩模缺陷复查与分类
• EUV 光刻掩模缺陷分析
• 掩模底版缺陷检测
• 缺陷元素组成分析(EDS 选件)
资源下载
• 详细指标:全部技术指标已单独整理,详见 MASK DR-SEM E5620 详细指标页
onetest仪器资源库 · 爱德万测试 MASK DR-SEM E5620

 

 

爱德万测试 Advantest · 株式会社爱德万测试(Advantest Corporation)
MASK DR-SEM E5620 · 详细指标
SEM 空间分辨率 2nm · EDS 能量分辨率 127eV(选配)· 支持 6025 尺寸光掩模
产品简介
专用于光掩模及掩模底版超小缺陷复查与分类的 DR-SEM,SEM 空间分辨率 2nm,针对 EUV 光刻掩模要求做了多项改进设计。
官方定位:SEM 空间分辨率 2nm · EDS 能量分辨率 127eV(选配)· 支持 6025 尺寸光掩模
核心规格
• 类型:缺陷复查扫描电子显微镜(DR-SEM)
• 支持材料:6025 尺寸光掩模
• SEM 空间分辨率:2nm
• EDS 能量分辨率:127eV(选配)
• 图像采集:极其稳定的自动图像采集技术
• 兼容性:兼容掩模检测系统
• 选件:元素组成分析选件、背散射电子分析选件
高空间分辨率
• SEM 空间分辨率达到 2nm
• 适用于光掩模及掩模底版上超小缺陷的复查与分类
稳定的自动图像采集
• 采用极其稳定的图像捕捉技术
• 可轻松导入掩模检测系统的缺陷定位数据
• 自动对缺陷位置进行成像
分析与兼容能力
• 兼容掩模检测系统
• 元素组成分析选件
• 背散射电子分析选件
典型应用场景
• 光掩模缺陷复查与分类
• EUV 光刻掩模缺陷分析
• 掩模底版缺陷检测
• 缺陷元素组成分析(EDS 选件)
官方产品页指标原文
• 2nm
注:以上指标按爱德万测试中国站产品页与其公开手册整理,未特别说明者为厂商标称值;如官网与手册冲突以厂商最新发布为准。
资源下载
onetest仪器资源库 · 爱德万测试 MASK DR-SEM E5620 详细指标

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爱德万测试(中国)管理有限公司

电话:+86-21-6163-0000

传真:+86-21-2028-7600

地址:上海市张江高科技园区华佗路 168 号 3 号楼 C 幢(邮编 201203)

网址:https://www.advantest.com/cn/


 

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